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半導体用CVDプロセスガス

メタル配線形成に用いられる六フッ化タングステン(WF₆)、低誘電率層間絶縁膜形成用のトリメチルシラン(3MS)を製品化しています。

WF₆

コンタクトプラグ、シリサイド形成に用いられる半導体用特殊材料ガスです。

純度 99.9995%以上

この製品の使用例

  • CVD WSix, W材料

トリメチルシラン(3MS)

微細化・高集積化の進む半導体に対応する低誘電率層間絶縁膜用のシリコン系ガスです。

純度 99.995%以上

この製品の使用例

  • SiC, SiOC, SiO₂, SiN膜材料

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