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フォトレジスト材料

フルオロアルコールモノマー、環状モノマー、強酸性モノマーをメタクリル化、アクリル化、α-(トルフルオロメチル)アクリル化、ノルボルネン化、ビニル化、スチレン化などの重合を施し、ご提供いたします。

製品一覧

  • BTHB
  • BTHB-NB
  • MA-X-HFA
  • TFMA-BTHB-NB
  • 4-HFA-ST
  • 3,5-HFA-ST

含フッ素フォトレジスト材料の特徴

  • 高い撥水性(高い接触角)
  • 優れた透明性
  • 良好な現像液への溶解性
  • 低屈折率
  • 高い溶媒溶解性

製品紹介

各種フッ素含有モノマー及びフッ素含有ポリマーをご提供致します。

ArF Photoresist Pattern

75nm L/S
80nm L/S
75nm C/H
65nm L/S

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電子材料営業部
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