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次世代半導体エッチングガス
CEG®︎ClF3
これまでクリーニングガスに用いられてきたClF₃を、 エッチングガス向けに高純度にカスタマイズした製品です。
| 純度 | 99.99%以上 |
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この製品の使用例
- 最先端デバイス用エッチング
CEG®︎34E
既存エッチングガス（C₄F₆、C₄F₈等）と比較し、アモルファスカーボンなどのマスク材に対して、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜を高選択にエッチング可能です。
| 純度 | 99.99%以上 |
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この製品の使用例
- 3D-NAND用SiO₂/SiN積層膜エッチング
- SiO₂, SiN膜の深堀エッチング
- SiN犠牲層エッチング
CEG®︎16N
エッチング時に添加ガスとして使用することで、既存エッチングガス（C₄F₆、C₄F₈等）と比較し、アモルファスカーボンなどのマスク材に対するシリコン酸化膜の選択性を大きく向上できます。
| 純度 | 99.99%以上 |
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この製品の使用例
- 3D-NAND用SiO₂/SiN積層膜エッチング
- SiO₂膜の深堀エッチング
CEG®︎31Y
アモルファスカーボンなどのマスク材に対して、シリコン酸化膜を高選択にエッチング可能です。また、エッチング時に添加ガスして使用することで、マスク材のモフォロジーを改善することが可能です。
| 純度 | 99.99%以上 |
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この製品の使用例
- SiO₂膜の深堀エッチング
- エッチング時のマスク材のモフォロジー改善
CEG®︎IF7
シリコン酸化膜や、シリコン窒化膜に対し、シリコン膜を高選択でエッチング可能です。
| 純度 | 99.95%以上 |
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この製品の使用例
- ダミーゲートPoly-Si除去
- Siハードマスク除去
- Si犠牲層エッチング
超高純度無水弗酸 (HF)
これまでクリーニングガスに用いられてきた高純度無水弗酸（HF）を、エッチングガス向けに高純度にカスタマイズした製品です。
20％F2/ Ar
次世代の環境配慮型エッチングガスです。既存のNF3やCF系のガスと比較し環境負荷を抑えることが可能です。
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素材化学品
コア（フッ素）技術を活用しながら環境性能に優れる発泡剤や溶剤、そしてユニークなフッ素構造を有する機能性材料や医農薬中間体を製造・供給しています。
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医療化学品
医薬品・医療機器向けの製品を長きに渡り提供しており、安全管理や品質管理に力を注いでいます。QOL向上に貢献する新規材料の開発を進めています。
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電子材料
広範囲な半導体プロセス用ガス、及びフォトレジスト樹脂材料を中心とした材料開発を精力的に進めています。
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エネルギー材料
電気自動車や蓄電池で使用されるリチウムイオン電池用電解液や添加剤を開発しています。当社は複数の海外製造拠点から世界各地のお客様に安定的に供給しています。
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肥料
「肥料の3要素」とされているチッソ・リン・カリウムを軸に、水稲用肥料など各種肥料を製造しています。
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建築・住宅用ガラス
室内の冷暖房効率を高めるのに効果的なエコガラス、侵入盗難を防ぐ防犯ガラスなど、健康で安心・快適、かつ環境に優しい製品を提供しています。
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自動車用ガラス
車室空間を快適にするエコ分野にも取り組み、安全性、快適性、デザイン性に寄与する高品質で多様なガラスを供給しています。
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ガラス繊維
ガラス繊維製品(グラスファイバー、グラスウール)は、自動車、エンプラ、住宅設備等様々な分野で採用されており、吸音/防音、軽量化等の特性に貢献しています。