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半導体製造装置用クリーニングガス

1988年に高純度フッ化物ガスの多目的プラントを完成させて以来、三フッ化塩素(ClF₃)などの半導体製造装置用クリーニングガスにおいて有力サプライヤーの地位を確立しています。

ClF₃

TiN、WをターゲットとしたLP-CVD炉のクリーニングガスです。

純度 99.9%以上

この製品の使用例

  • LP-CVD炉クリーニングガス

20%F₂/N₂

SiをターゲットとしたLP-CVD炉のクリーニングガスです。

純度 F:99.9%以上
N:99.999%以上

この製品の使用例

  • LP-CVD炉クリーニングガス

高純度無水弗酸(HF)

SiO₂をターゲットとしたLP-CVD炉の高性能クリーニングガスです。

純度 99.999%以上

この製品の使用例

  • エッチングガス、LP-CVD炉・排気配管クリーニングガス

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