当社は、2025年2月21日にお知らせしたとおり、フォトリソグラフィー分野の世界最大級の国際学会である “SPIE Advanced Lithography + Patterning 2025” において、imecと共同で「PFASフリーArF液浸レジスト」の開発成果と今後の計画について発表いたしました。この度、当該発表内容がSPIE News*に掲載されましたのでご紹介いたします。
　当社では環境に配慮した製品の開発に注力しており、ArF液浸レジスト材料である光酸発生剤および撥水ポリマーのPFASフリー化に成功したことを世界に先駆けて発表しました。これらの技術を活かし「PFASフリーArF液浸レジスト」の開発・製品化を目指すとともに、今後も引き続き半導体産業の技術革新および持続可能な社会の実現に貢献してまいります。

　　*SPIE News：SPIEが、最新の研究成果や技術革新に関する情報を、世界中の技術者に発信するためのニュースプラットフォーム

　　SPIE News 掲載ページ：Getting PFAS out of lithography materials

本件に関するお問い合わせ先

セントラル硝子株式会社 
電子材料営業部 
TEL:03-3259-7226