CELEFIN ®︎ 1233Z (HFO-1233zd(Z))

優れた環境性能（ODP≈0、GWP<1）と高い洗浄性を両立した次世代フッ素系溶剤です。HCFC-225を始め、塩素系、臭素系、炭化水素系溶剤の代替として最適な製品です。

ZEM-SCREEN ® (HFO-1234ze(E))

当社フッ素技術を応用した、地球にやさしいマグネシウム合金製造向けカバーガスを提供いたします。低GWP等、環境に配慮した製品です。

フッ化水素酸（無水品・希釈品）

フッ素の特色ある性質を活かして、身の回りでさまざまなフッ素化合物が活躍しています。そのフッ素化合物の出発原料として使用される製品がフッ化水素酸です。

芳香族

セントラル硝子ではトリフルオロメチル基を有する芳香族化合物の取り扱いが多数あり、フッ化水素（HF）を用いたハロゲン交換法等を用い商業生産しております。医農薬中間体として使用される他、洗浄用溶剤・潤滑剤としての用途など幅広い分野で用いられております。

芳香族モノマー

セントラル硝子はゴムの架橋剤や樹脂原料として用いられているBIS-AF[CAS No.1478-61-1]を生産しております。そこから誘導される各種誘導体や類似化合物においても競争力を持っています。同モノマーを用いることで含フッ素化合物特有の耐熱性などの機能を付加することができます。ポリマー原料として各種半導体材料に使用されている実績もあり、高品質な製品管理体制を築いております。

半導体用CVDプロセスガス

メタル配線形成に用いられる六フッ化タングステン（WF₆）、低誘電率層間絶縁膜形成用のトリメチルシラン（3MS）を製品化しています。

半導体製造装置用クリーニングガス

1988年に高純度フッ化物ガスの多目的プラントを完成させて以来、三フッ化塩素(ClF₃)などの半導体製造装置用クリーニングガスにおいて有力サプライヤーの地位を確立しています。

フォトレジスト材料

フルオロアルコールモノマー、環状モノマー、強酸性モノマーをメタクリル化、アクリル化、α－（トルフルオロメチル）アクリル化、ノルボルネン化、ビニル化、スチレン化などの重合を施し、ご提供いたします。

その他フッ素系製品

当社独自のフッ化黒鉛、フッ素樹脂などを製品化しております。