フォトレジスト材料

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製品一覧

  • BTHB
  • BTHB-NB
  • MA-X-HFA
  • TFMA-BTHB-NB
  • 4-HFA-ST
  • 3,5-HFA-ST

含フッ素フォトレジスト材料の特徴

  • 高い撥水性(高い接触角)
  • 優れた透明性
  • 良好な現像液への溶解性
  • 低屈折率
  • 高い溶媒溶解性

製品紹介

各種フッ素含有モノマー及びフッ素含有ポリマーをご提供致します。

ArF Photoresist Pattern

75nm L/S

75nm C/H

80nm L/S

65nm L/S

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電子材料営業部
営業時間:9:00~17:30
土・日、祝祭日、8月15日、年末年始除く

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研究開発
当社が取り組んでいる研究開発を紹介しています。

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