半導体・液晶製造装置用クリーニングガス

1988年に高純度フッ化物ガスの多目的プラントを完成させて以来、三フッ化窒素(NF3) ・ 三フッ化塩素(ClF3) などの半導体・液晶製造装置用クリーニングガスにおいて有力サプライヤーの地位を確立しています。

※詳細につきましては、直接お問い合わせください。

NF3

プラズマCVD炉クリーニングガスとして用いられています。

純度 99.995%以上
荷姿 シリンダー(10L, 47L, 440L), バンドル, ISOコンテナ 材質:マンガン鋼

この製品の使用例

  • プラズマCVD炉クリーニングガス

ClF3

LP-CVD炉クリーニングガスとして用いられています。
主に8インチのCVD装置に使用されています。

純度 99.9%以上
荷姿 シリンダー(3.4L, 10L, 40L, 88L) 材質:ステンレス鋼

この製品の使用例

  • LP-CVD炉クリーニングガス

20%希釈フッ素(20%F2/N2

LP-CVD炉クリーニングガスとして用いられています。
主に12インチのCVD装置に使用されています。

純度 F2:99.9%以上
N2:99.999%以上
荷姿 シリンダー(47L)、バンドル 材質:マンガン鋼

この製品の使用例

  • LP-CVD炉クリーニングガス

無水弗酸(HF)

LP-CVD炉クリーニングガス及びエッチングガスとして用いられています。

純度 99.999%以上
荷姿 シリンダー(3.4L, 10L, 40L) 材質:ステンレス鋼

この製品の使用例

  • エッチングガス、LP-CVD炉・排気配管クリーニングガス

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